業務概要
プロセス排ガス管理システムソリューション
集積回路、半導体表示、新エネルギー産業の生産過程で大量に使用される化学物質と特殊ガスは、成分が複雑なプロセス排ガスを発生し続けている。排ガス対策は客先の生産能力利用率、製品の歩留まり、従業員の職業健康、生産環境に直接影響する。各工程で発生する排気ガスに対して、盛剣は一般排気、酸性、アルカリ性、有毒、VOCsなどの排気ガスシステムの解決案を提供します。
集積回路
集積回路
集積回路製造のコアプロセスは主にドーピング、リソグラフィ、エッチング、薄膜プロセスである。シリコンシートの洗浄、酸化、湿式腐食、乾式腐食、イオン注入、拡散、CVDなどの段階で大量の酸塩基、砒素、リン酸、有機物などのプロセス排ガスが発生する。
半導体ディスプレイ
半導体ディスプレイ
TFT−LCDのアレイ、カラーフィルム、カートリッジ形成、モジュール工程は酸性、アルカリ性、有機排ガス及びフッ素含有排ガスなど大量の有害排ガスを発生する。AMOLEDのアレイ、モジュール工程は酸性、アルカリ性、有機などのプロセス排ガスを発生する。
新エネルギー
新エネルギー
半導体業界で蓄積した設計能力、専門人材及び実戦経験により、我が社は先進的なガバナンス技術と総合的なソリューションの応用を新エネルギー産業の環境ガバナンスなどに拡大した。
中央排気ガス処理システム
化学品供給と回収システム